日本对半导体设备出口动手了！商务部回应OB欧宝

　　5月23日，日本政府正式出台半导体制造设备出口管制措施。商务部新闻发言人就此事回答记者提问时表示，日本政府正式出台针对23种半导体制造设备的出口管制措施，这是对出口管制措施的滥用，是对自由贸易和国际经贸规则的严重背离，中方对此坚决反对。

　　5月23日，日本政府正式出台半导体制造设备出口管制措施。中方对此有何评论？

　　我们注意到，日本政府正式出台针对23种半导体制造设备的出口管制措施，这是对出口管制措施的滥用，是对自由贸易和国际经贸规则的严重背离，中方对此坚决反对。

　　在日方措施公开征求意见期间，中国产业界纷纷向日本政府提交评论意见，多家行业协会公开发表声明反对日方举措，一些日本行业团体和企业也以各种方式表达了对未来不确定性的担忧。但令人遗憾的是，日方公布的措施未回应业界合理诉求，将严重损害中日两国企业利益，严重损害中日经贸合作关系，破坏全球半导体产业格局，冲击产业链供应链安全和稳定。

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　　日方应从维护国际经贸规则及中日经贸合作出发，立即纠正错误做法，避免有关举措阻碍两国半导体行业正常合作和发展，切实维护全球半导体产业链供应链稳定。中方将保留采取措施的权利，坚决维护自身合法权益。

　　本次新规涉及的6类芯片制造设备（清洗设备、薄膜沉积设备、退火设备、光刻设备、刻蚀设备、检查设备）按用于计算的逻辑半导体性能来看，大部分为制造制程在14纳米以下的尖端产品所必需的设备，即用于14纳米以上成熟制程芯片的制造设备将不在本次受控范围内。23种新增制造设备详见下表。

　　根据芯智讯之前统计的2021年全球前十五大半导体设备企业排名当中，日本厂商占据了7家，包括东京电子（排名第3）、爱德万（排名第6）、SCREEN（排名第8）、日立高科（排名第10）、迪斯科（排名第11）、日本尼康（排名第13）、日本Kokusai Electric（排名第14）

　　东京电子是日本最大、全球第三大半导体制造设备提供商，公司总部在日本东京，主要从事半导体制造设备和平板显示器制造设备的研发和生产。主要产品包括：涂布/显像设备、热处理成膜设备、干法刻蚀设备、CVD、湿法清洗设备及测试设备。同时，东京电子也是涂胶显影设备领域的行业龙头，涂布设备在全球占有率达到87%。另外，FPD（平板显示）制造设备中，其蚀刻机设备占有率达到71%。

　　从营收来源地区来看，2021年东京电子来自中国大陆的营收占比最高，达到了27.5%，紧随其后的是韩国21.3%，中国台湾18.8%，美国11.8%，日本9.8%。

　　爱德万（Advantest）成立于1954 年，总部位于日本东京市，是全球领先的半导体测试设备厂商，拥有种类完善的半导体后道测试台和分选机。数据显示，在储存器测试台细分市场领域，爱德万以40%的市占率长期位居全球首位。

　　SCREEN（迪恩士）成立于1973年，总部位于日本东京，产品覆盖半导体、LCD、印刷电路板制程设备。自1975年开发出晶圆刻蚀机之后，SCREEN开启半导体设备制造之路，产品线不断向晶圆清洗设备、测量、晶圆图案检查以及直接成像系统延伸。资料显示，Screen在单晶圆清洗设备市场占有率高达54.9%。在涂布机/显影机，湿法蚀刻机和抗蚀剂剥离剂的LCD制造设备市场也拥有非常高的市场份额。

　　日立高科（Hitachi Higt-Tech）成立于1947年，是全球领先的设备大厂。主要产品包括半导体设备、电子显微镜、FPD设备及医疗分析设备等。其中，面向半导体领域提供过程设备，计量和检测设备，其核心产品包括CD测量SEM和等离子蚀刻系统，可实现高精度超细加工。此外，其FPD设备包括包括Array、Cell、Module、彩色滤光片之制程设备，包含玻璃基板表面检查设备、曝光机、湿制程设备等。

　　DISCO（迪斯科）创立于1937年，总部位于日本东京，是全球领先的晶圆切割设备厂商。根据数据显示，在2021年的半导体晶圆切割设备，DISCO占据了超过70%的市场份额。

　　尼康成立于1917年，总部位于日本东京，是全球领先的基于先进光电和精密技术的产品和解决方案供应商之一。除了我们所熟知的相机产品之外，尼康还拥有针对半导体及FPD制造的光刻设备。

　　早在1980年，尼康就开始半导体光刻设备研究，1986年推出第一款FPD（平板显示）光刻设备。2004年之前，尼康曾占据光刻机市场超过50%的市场份额。但后来由于选择持续做干式光刻微缩，使得ASML通过浸没式光刻系统的成功实现了对其的反超，再加上ASML之后在EUV光刻系统上的成功，尼康彻底落伍。目前尼康的半导体光刻机仍主要为ArF和KrF光源，不过也有ArF液浸式光刻机，通过多重曝光可以支持7nm芯片制造。

　　Kokusai Electric原为日立国际电气，并与日立High Technology共同在日立集团下开展半导体设备的竞争。但随着日立制作所的业务集中、筛选，在2017年作为非核心业务被出售给了美国的私募基金（Private Equity Fund）――Kohlberg Kravis Roberts(KKR)，正式脱离日立集团。此外，KKR把原本在日立国际电气集团中承担半导体生产设备和成膜工艺技术的资产进行汇总，于2018年6月成立了新的Kokusai Electric。

　　KKR此前计划将Kokusai Electric部分半导体设备业务（或者全部业务）出售给中国的大型企业和中国政府联合的基金组织，遭遇失败。随后应用材料也计划35亿美元收购Kokusai Electric，但同样遭遇了失败。

　　大福集团（Daifuku）创于1937年，最早生产气锤、锻压加工机，随着日本经济的复兴与发展，开始涉足物料运输及管理物流。大福的洁净室存储、搬运系统被广泛应用于半导体、液晶等平板显示器制造行业，在许多世界著名企业均有销售。大福集团曾是2018年全球前十五大半导体设备厂商。

　　佳能成立于1937年，是全球第三大光刻机供应商。曾于1984年推出首款步进式光刻机（stepper）。2011年，佳能推出第一款用于后道的步进式光刻机FPA-5510iV，正式进入先进封装领域的光刻市场。与尼康一样，佳能也在干式与浸没式光刻机路线上选择错误导致持续落后，最终也只是在封装光刻机市场剩下一席之地。

　　资料显示，2020年全球光刻机总销售量为413台。其中ASML销售258台占比62%，佳能销售122台占比30%，尼康销售33台占比8%。虽然，佳能的销量比尼康还高，但其主要是封装光刻机，如果按照销售额来计算的线%。

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